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一种减少晶片减薄后翘曲的方法

摘要

本发明公开的减少晶片减薄后翘曲的方法,是晶片减薄前在晶片背面沿X轴和Y轴进行正交划片,X轴与Y轴矩阵宽度为1um-100mm,所述X轴平行于衬底定位边。该方法通过在减薄前预划片的工艺,沿X轴和Y轴正交划出划痕,可以释放损伤层的相互应力,为损伤层的膨胀或内缩预留空间,本发明能有效减少晶片翘曲,提高制造中的成品率,更利于激光剥离和晶片绑定等优点。

著录项

  • 公开/公告号CN102157366A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-08-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杭州士兰明芯科技有限公司;

    申请/专利号CN201110033846.1

  • 申请日2011-01-31

  • 分类号H01L21/302;H01L21/304;B23K26/00;B28D5/00;

  • 代理机构杭州求是专利事务所有限公司;

  • 代理人韩介梅

  • 地址 310018 浙江省杭州市经济技术开发区东区10号路300号

  • 入库时间 2023-12-18 03:00:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-04-03

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/302 申请公布日:20110817 申请日:20110131

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-09-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/302 申请日:20110131

    实质审查的生效

  • 2011-08-17

    公开

    公开

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