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低压气相快速淀积金刚石

摘要

本发明为低压气相快速淀积金刚石,属于新材料技术领域。为了用最简单的方法得到金刚石,近年来,低压气相淀积法(CVD),生长人造金刚石薄膜成为热门的研究课题。据“金刚石低气压相生长的热力学耦合模型”的介绍,在所有的低压法生产金刚石中,我最喜欢的是燃烧法。为了提高金刚石生长速度和尺寸,为了对生产金刚石的进一步了解,我复习化学基础科学知识,详细知道碳原子的物理化学特性,在自由状态下碳原子外层电子云有一定的伸展方向。于是,对激活气化后的碳原子的外层四个电子加上四个以四面体四个高为向的电场,把碳原子核外层四个电子定位于碳原子形成共价键的方向和位置,以利于结晶金刚石而不利于结晶石墨。为了使金刚石结晶更顺利,四个电场采用矩形微波电源。初步算计每小时金刚石增厚1.4879628mm。

著录项

  • 公开/公告号CN102031496A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2011-04-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 朱英豪;

    申请/专利号CN200910157901.0

  • 发明设计人 朱英豪;

    申请日2009-07-16

  • 分类号C23C16/27;C01B31/06;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100022 北京市崇文区忠实里南街3号楼1门404号

  • 入库时间 2023-12-18 02:17:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-02-06

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C16/27 申请公布日:20110427 申请日:20090716

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-06-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/27 申请日:20090716

    实质审查的生效

  • 2011-04-27

    公开

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