法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2013-02-06
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C16/27 申请公布日:20110427 申请日:20090716
发明专利申请公布后的视为撤回
2011-06-15
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/27 申请日:20090716
实质审查的生效
2011-04-27
公开
公开
机译: 低温多晶硅薄膜的元件及其在低温下直接淀积的多晶硅薄膜的方法及其感应耦合等离子体化学气相淀积设备
机译: 制造化学气相沉积金刚石产品,例如切削工具,包括在模具界面处沉积化学气相沉积金刚石至所需厚度,溶解模具,并将剩余的金刚石安装在支架中
机译: 制造化学气相沉积金刚石产品,例如切削工具,包括在模具界面处沉积化学气相沉积金刚石至所需厚度,溶解模具,并将剩余的金刚石安装在支架中