机译:从封面开始:通过低压/高温退火增强化学气相沉积单晶金刚石的光学特性
microwave plasma hydrogen vacancy nitrogen;
机译:低压/高温退火增强化学气相沉积单晶金刚石的光学性能
机译:等离子低压/高温处理对化学气相沉积金刚石膜的机械增强作用
机译:高压高温退火前后氮掺杂化学气相沉积单晶金刚石的表征
机译:外延单晶化学气相沉积金刚石的光学性质
机译:通过化学气相沉积生长的金刚石单晶的光学缺陷中心和表面形态。
机译:使用低压化学气相沉积的Si3N4介电层改善介电电润湿微流体器件的介电性能
机译:通过低压/高温退火增强化学气相沉积单晶金刚石的光学性能