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一种将GDSⅡ文件转换为无掩模光刻机曝光数据的方法

摘要

本发明公开了一种将GDSII文件转换为无掩模光刻机曝光数据的方法。首先将GDSII中的矢量图形统一转换为多边形,再将每层大图分解为一系列曝光区域。将曝光区域中的多边形利用四叉树图形分割法将其分解为矩形,再将一个曝光区域的图形存储为几个位图文件,借助光刻机平台的高精度性,实现了用低分辨率位图曝光出高分辨率图形的效果。

著录项

  • 公开/公告号CN101826127A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-09-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 芯硕半导体(中国)有限公司;

    申请/专利号CN201010143778.X

  • 发明设计人 蒋兴华;李辉;李显杰;

    申请日2010-04-07

  • 分类号G06F17/50;

  • 代理机构安徽合肥华信知识产权代理有限公司;

  • 代理人余成俊

  • 地址 230601 安徽省合肥市经济开发区锦绣大道与习友路交叉口

  • 入库时间 2023-12-18 00:44:04

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