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利用极化感应空穴实现p型金属极性宽禁带半导体的方法

摘要

一种利用极化感应空穴实现p型金属极性宽禁带半导体的方法,其步骤包括:步骤1:选取一个衬底;步骤2:在衬底上生长低温成核层,利于成核;步骤3:在低温成核层上生长低温缓冲层,可以减少位错密度,提高晶体质量;步骤4:在低温缓冲层上生长极性宽禁带半导体化合物,完成p型金属极性宽禁带半导体的制备。

著录项

  • 公开/公告号CN101807520A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-08-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN201010128387.0

  • 申请日2010-03-17

  • 分类号H01L21/20;H01L21/36;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人汤保平

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2023-12-18 00:39:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-02-29

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/20 公开日:20100818 申请日:20100317

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2010-10-06

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/20 申请日:20100317

    实质审查的生效

  • 2010-08-18

    公开

    公开

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