一种无掩模光刻技术的曝光方法

摘要

本发明公开了一种无掩模光刻技术的曝光方法，涉及光刻技术领域。本发明利用空间光调制器(SLM)调制产生的“数字掩模”经二维交叠(X方向左右交叠和Y方向上下交叠)形成目标曝光图形，交叠处曝光图形的曝光能量为梯度变化叠加，从而获得高质量目标曝光图形。本发明提出的曝光方法解决了无掩模光刻曝光技术中的拼接问题，大大减小了曝光图形的拼接误差，同时改善了因畸变原因而导致曝光图形异常的现象。