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一种基于多晶硅发射极的双极晶体管

摘要

本发明揭露了一种基于多晶硅发射极的双极晶体管,包括衬底,在所述衬底内形成的集电区和位于集电区上的基区,以及在所述衬底的上表面通过先后沉积至少两层不同掺杂浓度的多晶硅层形成的多晶硅发射极。本发明所提供的一种基于多晶硅发射极的双极晶体管,通过采用不同掺杂浓度的多晶硅层构成多晶硅发射极,在多晶硅发射极中形成了能障(energy barrier),从而在低VCE区域显著提高了电流增益。其制作工艺与现有工艺兼容,不需要提供额外的掩模,没有带来附加的工艺难度,因此易于实现。

著录项

  • 公开/公告号CN101599506A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-12-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海宏力半导体制造有限公司;

    申请/专利号CN200910055368.7

  • 发明设计人 唐树澍;

    申请日2009-07-24

  • 分类号H01L29/73(20060101);H01L29/43(20060101);H01L21/283(20060101);

  • 代理机构上海思微知识产权代理事务所;

  • 代理人郑玮

  • 地址 201203 上海市张江高科技圆区郭守敬路818号

  • 入库时间 2023-12-17 23:10:12

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-06-05

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L29/73 申请公布日:20091209 申请日:20090724

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2011-07-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/73 申请日:20090724

    实质审查的生效

  • 2009-12-09

    公开

    公开

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