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一种利用脉冲参数控制电铸镍层硬度和晶粒度的方法

摘要

一种利用脉冲参数控制电铸镍层硬度和晶粒度的方法,属于电铸制备领域,能够通过调整脉冲电流的参数来自由控制镀层的硬度,也就是控制镀层的晶粒大小。本发明通过配电铸液→阴极材料、电解镍阳极前处理→电铸→阴极脱模→测量硬度等步骤,把各种电铸工艺下得到的电铸制品用显微硬度仪测量显微硬度,得到对应于各种不同脉冲参数的维氏硬度值,根据霍尔派曲公式:得到了脉冲参数变化对晶粒大小的影响规律。霍尔派曲公式σ=σ

著录项

  • 公开/公告号CN101481808A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-07-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京科技大学;

    申请/专利号CN200810246705.6

  • 申请日2008-12-30

  • 分类号C25D1/00;C25D3/12;C25D5/18;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100083 北京市海淀区学院路30号

  • 入库时间 2023-12-17 22:14:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-23

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C25D1/00 公开日:20090715 申请日:20081230

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2009-09-09

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-07-15

    公开

    公开

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