公开/公告号CN101432412A
专利类型发明专利
公开/公告日2009-05-13
原文格式PDF
申请/专利权人 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司;
申请/专利号CN200780010910.6
申请日2007-03-13
分类号C11D3/00;C11D7/26;C11D7/32;C11D11/00;C11D3/20;C11D3/28;C11D3/30;
代理机构北京市中咨律师事务所;
代理人林柏楠
地址 法国巴黎
入库时间 2023-12-17 21:57:44
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-07-20
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C11D3/00 公开日:20090513 申请日:20070313
发明专利申请公布后的视为撤回
2009-07-08
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-05-13
公开
公开
机译: 选择性,无损伤的铜清洗工艺,可用于预蚀刻,蚀刻后/ CMP
机译: CMP后晶圆清洗工艺
机译: CMP后从晶片上去除金属化合物污染物的化学溶液和晶片清洗方法