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制作硅纳米点及非易失性存储器的方法

摘要

一种制作硅纳米点的方法,包括下列步骤,提供无定形硅;在所述无定形硅上形成籽晶;对所述无定形硅和籽晶退火形成硅纳米点;氧化所述硅纳米点形成氧化硅,以隔离相邻硅纳米点。本发明还公开了一种制作非易失性存储器的方法。所述制作硅纳米点的方法以及制作非易失性存储器的方法能够使得所形成的非易失性存储器中的硅纳米点的尺寸较小,并且隔离度较好,从而提高了非易失性存储器的存储性能。

著录项

  • 公开/公告号CN101399190A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2009-04-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200710046799.8

  • 发明设计人 宋化龙;冯永刚;张复雄;林静;

    申请日2007-09-30

  • 分类号H01L21/20;H01L21/28;H01L21/336;H01L21/8247;B82B3/00;

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人逯长明

  • 地址 201203 上海市浦东新区张江路18号

  • 入库时间 2023-12-17 21:40:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-09-14

    发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L21/20 公开日:20090401 申请日:20070930

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2009-05-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2009-04-01

    公开

    公开

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