一种等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法

摘要

本发明所述的是一种等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法，采用主元分析(PCA)和多元线性回归(MVR)的方法给出了一种等离子刻蚀工艺过程中的工艺灵敏度的分析方法。实验结果表明，该方法的预测精度基本上满足现有的工艺标准，它对于提高工艺的质量和实现工艺的反馈控制能够起到重要的作用。本发明利用历史数据，采用主元分析(PCA)和主元回归(PCR)的方法来建立工艺结果参数与工艺过程参数之间的函数方程，从而实现工艺灵敏度的准确分析，进而控制等离子刻蚀工艺过程。