掩模版图、掩模版制造方法和掩模版图校正方法

摘要

一种掩模版图、掩模版制造方法和掩模版图校正方法，其中，所述掩模版图包括用于根据曝光显影工艺以形成产品图形的设计图形，还包括：辅助图形，具有不超过曝光分辨率的尺寸，并且在曝光之后形成对所述设计图形的曝光损失进行补偿的区域。本发明通过设置辅助图形，有效地对所述设计图形的曝光失真进行补偿，从而使所获得的产品的关键尺寸愈加接近于期望尺寸，并节约了大量进行比较和调试的时间和精力，提高了生产效率，节约了生产成本。