法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-03-23
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G03F7/14 公开日:20061220 申请日:20060615
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-07-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-12-20
公开
公开
机译: EUV掩模坯料,使用EUV掩模坯料制成的光掩模,使用该光掩模的光刻设备以及使用该光掩模的半导体器件的制造方法
机译: 光掩模,包括该光掩模的层压体,该光掩模的制造方法,使用该光掩模的图案形成装置以及使用该光掩模的图案形成方法
机译: 光掩模,包括该光掩模的层压体,该光掩模的制造方法,使用该光掩模的图案形成装置以及使用该光掩模的图案形成方法