执行掩模图案的透射调节以改善处理宽容度的方法

摘要

一种用在光刻工艺中的产生掩模的方法。该方法包括确定具有多个将被成像的特征的目标掩模图案和用于成像掩模的照明系统；识别在目标图案中的临界间距并为了成像临界间距而优化照明系统的照明设置；识别目标图案的禁用间距；并且修正具有等于或基本上等于禁用间距的间距的特征的透射率以致于等于或基本上等于禁用间距的特征的曝光宽容度增加。