一种对低介电材料表面进行处理形成光学抗反射层的工艺

摘要

本发明为一种对低介电材料表面等离子体处理形成光学抗反射层的工艺。本发明中对低介电材料表面进行2～5次等离子体处理，并通过调节处理时间、温度、压力工艺参数，调节表面介质薄膜的折射率、消光系数，从而形成表面抗反射薄膜，取代工业界常规使用的有机、无机抗反射层，大大简化工艺操作，并节约化学试剂的使用。而且，在低介电材料表面形成的抗反射薄膜层将会在后续刻蚀、化学机械抛光工艺中移除，这样介电常数将不会变化，仍然具有低介电常数的优势。