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半导体激光二极管的MBE生长

摘要

一种以(Al,Ga,In)N材料系统制造连续波半导体激光二极管的方法包括:依次生长第一覆层区域(4),第一光制导区(5),有源区域(6),第二光制导区(7)和一第二覆层(8)。该第一覆层区域(4),该第一光制导区(5),该有源区域(6),该第二光制导区(7)和该第二覆层(8)中的每一个都是由分子束外延生长淀积的。

著录项

  • 公开/公告号CN1619904A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2005-05-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 夏普株式会社;

    申请/专利号CN200410102390.X

  • 申请日2004-10-28

  • 分类号H01S5/323;H01S5/343;

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人李家麟

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2023-12-17 16:08:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-09-09

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2005-07-27

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-05-25

    公开

    公开

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