公开/公告号CN1479367A
专利类型发明专利
公开/公告日2004-03-03
原文格式PDF
申请/专利权人 联华电子股份有限公司;
申请/专利号CN02141876.4
发明设计人 吴集锡;
申请日2002-08-27
分类号H01L21/8238;H01L21/84;
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;
代理人王学强
地址 台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路三号
入库时间 2023-12-17 15:09:42
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2006-06-21
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回
2004-03-03
公开
公开
机译: 绝缘体上半导体类型结构,即绝缘体上硅结构,制造例如绝缘体的方法。微处理器的存储组件,涉及在中性/受控还原气氛中进行热处理
机译: 适用于制造绝缘体上硅结构的基底表面清洁方法
机译: 适用于制造绝缘体上硅结构的基底表面清洁方法