首页> 中国专利> 在硅绝缘体基底上制造双载子互补式金氧半导体的方法

在硅绝缘体基底上制造双载子互补式金氧半导体的方法

摘要

一种在硅绝缘体基底上制造双载子互补式金氧半导体的方法,其将金氧半晶体管的工艺加以修改,以同步制作双载子晶体管与互补式金氧半晶体管,如此将可大幅减少工艺步骤,并降低工艺成本。再者,由于本发明在硅绝缘体基底上形成双载子互补式金氧半导体元件,故可降低元件的寄生电容,避免元件发生闭锁现象,并可增进元件的集成度与操作速度。

著录项

  • 公开/公告号CN1479367A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2004-03-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 联华电子股份有限公司;

    申请/专利号CN02141876.4

  • 发明设计人 吴集锡;

    申请日2002-08-27

  • 分类号H01L21/8238;H01L21/84;

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人王学强

  • 地址 台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路三号

  • 入库时间 2023-12-17 15:09:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-06-21

    发明专利申请公布后的视为撤回

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2004-03-03

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号