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具有双栅极结构的沟槽型双扩散金属氧化物半导体晶体管

摘要

提出了一种沟槽型DMOS晶体管单元,它是在第一种导电类型的衬底上形成的。具有第二种导电类型的体区位于衬底上。至少一个沟槽通过体区和衬底延伸。一个绝缘层镶衬沟槽。该绝缘层包括在一个界面上相互接触的第一和第二个部分。绝缘层的第一部分的层面的厚度比第二部分大。界面的深度位于体区下边界之上。在沟槽里形成一个导电电极,使它覆盖在绝缘层之上。在与沟槽相邻的体区里形成第一种导电类型的源区。

著录项

  • 公开/公告号CN1428007A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2003-07-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 通用半导体公司;

    申请/专利号CN01806740.9

  • 发明设计人 石甫渊;苏根政;崔炎曼;

    申请日2001-03-16

  • 分类号H01L29/78;H01L29/423;H01L21/336;

  • 代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人关兆辉;张天舒

  • 地址 美国纽约

  • 入库时间 2023-12-17 14:48:42

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-12-30

    发明专利申请公布后的驳回

    发明专利申请公布后的驳回

  • 2003-09-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-07-02

    公开

    公开

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