缩小接触窗开口尺寸的微影工艺

摘要

本发明公开了一种缩小接触窗开口尺寸的微影工艺。是利用两个不同线/间距光罩的线形图案,在重复曝光后相互交错垂直,获得相互组合而成为接触窗开口图案,而得以在负光阻层上形成所需的接触窗开口图形。由于本方法可精确地控制线/间距光罩的线距宽,因而可以降低接触窗开口的关键尺寸。所以,本发明的缩小接触窗开口尺寸的微影工艺可以避免组件集成度增加,在工艺上所造成的困难度与限制。