法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2007-05-16
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
2004-05-19
授权
授权
2001-11-21
实质审查的生效
实质审查的生效
2001-11-14
公开
公开
机译: 抛光体,抛光设备,抛光设备调整方法,抛光膜厚度或抛光终点测量方法以及半导体器件制造方法
机译: 抛光体,抛光设备,抛光设备调整方法,抛光膜厚度或抛光终点测量方法以及半导体器件制造方法
机译: 抛光体,抛光剂,抛光剂的调节方法,抛光膜厚度或抛光终点的测量方法,半导体装置的生产方法