退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
刘玉岭; 李薇薇;
河北工业大学微电子研究所,天津,300130;
CMP; 碱性抛光液; 水溶胶; 应力;
机译:研究人员提交了专利申请“ Cmp抛光液,衬底的抛光方法和电子元件”以供批准
机译:从CMP焊盘加工到回收业务,旨在将新型SiC / GaN抛光技术商业化
机译:高科技零件的超精密抛光技术-应力消除和超精密精加工-CMP抛光垫的表面状况分析和抛光特性
机译:微电子器件制备中的CMP抛光技术和抛光液的研究
机译:CMP过程中的磨料颗粒轨迹和材料去除不均匀性以及CMP浆料的过滤特性-模拟和实验研究。
机译:不同抛光技术对三种玻璃离聚物的恢复材料表面粗糙度和细菌粘附的影响:体外研究
机译:通过在多核Cmp中更好的存储器控制器放置来实现可预测的性能
机译:用密度分析和金相抛光技术研究非均匀氧化效应
机译:CMP的CMP抛光液CMP抛光液组及抛光方法
机译:用于CMP的抛光液,用于CMP的抛光液以及抛光方法
机译:CMP抛光液,CMP抛光液组及抛光方法
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。