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制造磁性石榴石单晶膜和具有不均匀厚度的磁性石榴石单晶膜的方法

摘要

一种用液相外延工艺制造磁性石榴石单晶膜的方法,它包括以下步骤;在非磁性石榴石单晶基底上形成任何想要的形状和具有任何想要的厚度铂或铂合金膜;将此非磁性石榴石单晶基底与含有作为助熔剂的氧化铅的磁性石榴石原材料的熔体相接触,以使当以助熔剂使铂或铂合金膜从非磁性石榴石单晶基底上去除时生长出磁性石榴石单晶膜于非磁性的石榴石单晶基底上。

著录项

  • 公开/公告号CN1278649A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2001-01-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社村田制作所;

    申请/专利号CN00118684.1

  • 发明设计人 藤野优;

    申请日2000-06-16

  • 分类号H01F41/28;H01F10/24;

  • 代理机构上海专利商标事务所;

  • 代理人沈昭坤

  • 地址 日本京都府

  • 入库时间 2023-12-17 13:46:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2008-08-20

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2005-02-16

    授权

    授权

  • 2001-01-03

    公开

    公开

  • 2000-11-08

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

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