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使用半球形晶粒硅制造电容器的方法

摘要

本发明所公开的是使用HSG膜制造电容器的改进的方法,该方法能够使电容量增加,稳定单元特性和得到没有存储节点间的跨接的电容器。该方法使得在其表面具有HSG膜的存储节点的表面的晶相稳定。稳定的晶相能够有力地支持HSG,并由此防止在清洗步骤中HSG膜与存储节点的表面分离。

著录项

  • 公开/公告号CN1246726A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2000-03-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN99109548.0

  • 发明设计人 金晟泰;金景勋;

    申请日1999-07-08

  • 分类号H01L21/70;H01L21/3205;

  • 代理机构11219 中原信达知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人谢丽娜;余朦

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2023-12-17 13:33:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-09-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/70 授权公告日:20040505 申请日:19990708

    专利权的终止

  • 2004-05-05

    授权

    授权

  • 2000-03-08

    公开

    公开

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