法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-09-01
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/70 授权公告日:20040505 申请日:19990708
专利权的终止
2004-05-05
授权
授权
2000-03-08
公开
公开
机译: 使用半球形晶粒(HSG)多晶硅和选择性多晶硅回蚀制造动态随机存取存储器(DRAM)单元电容器的方法
机译: 提供半球形晶粒多晶硅的导电掺杂层和根据该方法制造的半球形晶粒多晶硅层的半导体加工方法
机译: 提供半球形晶粒多晶硅的导电掺杂层和根据该方法制造的半球形晶粒多晶硅层的半导体加工方法