半导体设备腔室、用于腔室的系统和沉积物状态控制方法

摘要

本公开涉及一种用于半导体设备的腔室的系统，包括：检测装置，被配置成检测腔室内沉积物的信息，并且能够被传送机构传送进出腔室；控制装置，被配置成根据所检测的沉积物的信息确定用于改变所述沉积物的状态的程式，并使得在腔室内执行所确定的程式。