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一种MOSFET晶圆临近颗粒测试方法及其测试电路

摘要

本发明公开了一种MOSFET晶圆临近颗粒测试方法及其测试电路,其测试方法包括以下步骤:S101,通过电阻将MOSFET晶圆的漏极加载端和漏极测量端连接;S102,通过测试VTH小电流参数判断N个被测MOSFET颗粒的基本功能正常;S103,测试Rdson,选择功能正常且距离被测颗粒最近的颗粒作为辅助颗粒;S104,将辅助颗粒的栅极驱动为常通状态;S105,将共漏极的测量端连接至辅助颗粒的源极,然后进行Rdson参数测试;本发明还相应的公开了一种MOSFET晶圆临近颗粒测试电路,能够提高对MOSFET晶圆的Rdson参数的测量精度,有效降低了测试误差。

著录项

  • 公开/公告号CN111337812A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-06-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010310992.3

  • 发明设计人 王煜;

    申请日2020-04-20

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 710119 陕西省西安市西部大道170号丰泽科技园2号楼401室

  • 入库时间 2023-12-17 09:46:46

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-26

    公开

    公开

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