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用于晶圆检查的高级充电控制器的方法和设备

摘要

提供了一种用于光束的高级充电控制的系统和方法。该系统包括:激光源,包括用于发射束的激光二极管;以及束均匀器,用于均匀所发射的束。系统和方法还包括:束成形器,被配置为使用变形棱镜组对发射的束进行整形;以及驱动器,被配置为将成形的束引导到晶圆上的指定位置,其中激光源、束成形器和驱动器同轴对准。

著录项

  • 公开/公告号CN111164727A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-05-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201880063511.4

  • 发明设计人 张剑;陈庆久;王義向;

    申请日2018-09-25

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人张昊

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-12-17 09:38:14

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-09

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/22 申请日:20180925

    实质审查的生效

  • 2020-05-15

    公开

    公开

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