在压印光刻工艺中配置光学层

摘要

一种配置光学层的压印光刻方法包括选择要施加到基板上以改变基板的有效折射率的纳米层的一个或多个参数；以及在基板上压印纳米层以改变基板的有效折射率，使得可透射通过基板的相对光量改变选定的量。