多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液以及蚀刻方法

摘要

本发明提供一种蚀刻液，用于蚀刻膜厚较厚的铜层和基底钛层的多层膜，该蚀刻液即使在金属离子浓度达到8000ppm以上时也能够使用。该蚀刻液含有(a)过氧化氢、(b)氟离子供给源、(c)唑类、(d)过氧化氢稳定剂、(e)有机酸、(f)胺类和(g)水，所述有机酸使用甲磺酸与选自乳酸、琥珀酸、戊二酸、丙二酸中的一种有机酸，或者单独使用乳酸。