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用于离子束靶衬底的表面修饰的方法和系统

摘要

描述了中子发生靶的设计和制造方法。在一些实施方式中,可以对靶衬底的表面进行修饰以形成一个或多个表面特征。在一些实施方式中,在靶衬底的表面上设置中子源层。在一些实施方式中,可将中子源层和靶衬底加热到高温以在中子源层和靶衬底之间形成结合。在一些实施方式中,对靶衬底的表面修饰可以减少靶的起泡和材料剥落。该靶可以用于硼中子俘获疗法。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-06-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G21K1/00 申请日:20170605

    实质审查的生效

  • 2020-03-24

    公开

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