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公开/公告号CN110985323A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-04-10
原文格式PDF
申请/专利权人 大连理工大学;
申请/专利号CN201911297380.9
发明设计人 付省辉;丁振峰;杜满强;李娟;
申请日2019-12-17
分类号F03H1/00(20060101);
代理机构21200 大连理工大学专利中心;
代理人李晓亮
地址 116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号
入库时间 2023-12-17 07:43:01
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-05
实质审查的生效 IPC(主分类):F03H1/00 申请日:20191217
实质审查的生效
2020-04-10
公开
机译: 电子回旋共振离子源装置,该电子回旋共振离子源装置通过能够改变截面形状以产生磁场的电磁体或超导磁体来提供离子,及其制造方法
机译: 通过微波场和静磁场的有线施加器利用电子回旋共振激发等离子体的装置。
机译: 静磁场和微波场施加器在电子回旋共振态中激发等离子体的装置
机译:在交叉磁场中杆天线驱动的电子回旋共振离子推进器中离子束异常行为
机译:下游磁场准直对电子回旋共振微波等离子体中离子行为的影响
机译:利用均匀高密度等离子体发生天线提高微波放电式离子推进器的性能
机译:放电室磁场构型对电子回旋共振微波离子推进器影响的研究
机译:微波等离子体电子回旋共振化学气相沉积法沉积的纳米晶和非晶硅薄膜晶体管:材料分析,器件制造和表征。
机译:电子回旋共振离子源增强离子注入钛的理化和生物学特性
机译:使用天线改进微波排放离子推进器,用于均匀和致密等离子体生产
机译:电子回旋共振微波等离子体化学气相沉积法研究氮等离子体不稳定性及氮化硅的生长