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一种InAs量子点的远程外延结构及制备与应用

摘要

本发明属于太阳能电池器件领域,公开了一种InAs量子点的远程外延结构及制备与应用。所述远程外延结构包括依次层叠的GaAs衬底、单层石墨烯层和InAs量子点阵列。其制备方法为:将单层石墨烯转移到GaAs衬底上,然后放入分子束外延系统中,在单层石墨烯层上生长InAs量子点阵列,得到InAs量子点的远程外延结构。本发明通过在砷化镓衬底与砷化铟外延层之间引入单层石墨烯结构,有效阻断了界面的铟原子与镓原子的互扩散,并为量子点的生长提供了平面有序的成核位点,显著提高砷化铟量子点的晶体质量,为砷化铟中间带量子点电池性能的提升提供有效的材料基础。

著录项

  • 公开/公告号CN110660871A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2020-01-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华南理工大学;

    申请/专利号CN201910899953.9

  • 发明设计人 李国强;余粤锋;林静;梁敬晗;

    申请日2019-09-23

  • 分类号

  • 代理机构广州市华学知识产权代理有限公司;

  • 代理人罗啸秋

  • 地址 510640 广东省广州市天河区五山路381号

  • 入库时间 2023-12-17 06:30:15

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/0216 申请日:20190923

    实质审查的生效

  • 2020-01-07

    公开

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