法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-02-06
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L21/02 申请公布日:20140521 申请日:20131107
发明专利申请公布后的视为撤回
2015-07-29
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20131107
实质审查的生效
2014-05-21
公开
公开
机译: 加工有凹凸的晶圆的晶圆加工方法及晶圆加工装置
机译: 晶圆抛光装置,其中晶圆的平面度得到改善,并且其晶圆抛光方法得到改善
机译: TAIKO晶圆保护带和TAIKO晶圆加工方法