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薄镍-钯-金镀层、带有导线的此镀层所成封装结构及其制作方法

摘要

本发明提供薄镍-钯-金镀层、带有导线的此镀层所成封装结构及其制作方法,其位于一焊垫上,此薄镍-钯-金镀层包含位于焊垫上的镍层;位于镍层上的钯层;与位于钯层上的金层,其中镍层具有较已知镍层为薄的厚度,例如,小于3.5μm。进一步,此薄镍-钯-金镀层与接合于金层上的导线成为封装结构。本发明亦提供此薄镍-钯-金镀层以及此封装结构的制作方法。本发明应用较薄的镍层,可以降低待镀焊垫间的距离,达到图案细小化的要求,另外,较薄的镍层亦使此层的应力下降,进而使整体镍-钯-金镀层的应力下降,达到高温工艺时应力值相对较低的优势。

著录项

  • 公开/公告号CN102956604A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-03-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国台湾上村股份有限公司;

    申请/专利号CN201210296564.5

  • 申请日2012-08-20

  • 分类号H01L23/498;H01L21/48;C23C18/34;C23C18/44;

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人闻卿

  • 地址 中国台湾桃园县大团乡民族路7-1号

  • 入库时间 2024-02-19 17:33:05

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-09-02

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L23/498 申请公布日:20130306 申请日:20120820

    发明专利申请公布后的视为撤回

  • 2013-04-03

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/498 申请日:20120820

    实质审查的生效

  • 2013-03-06

    公开

    公开

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