副反射面的位姿调整量的确定方法、位姿调整方法及装置

摘要

本申请提供一种副反射面的位姿调整量的确定方法、位姿调整方法及装置，应用于双反射面天线，双反射面天线包括主反射面和副反射面，副反射面的位姿调整量的确定方法包括：获得口径面的光程误差分布，其中，口径面与主反射面的口径对应；对光程误差分布进行拟合，确定出拟合结果；根据预设的整体对应关系和拟合结果，确定出副反射面的位姿调整量，其中，整体对应关系为副反射面的偏移量与拟合结果之间的对应关系。基于光学像差理论对双反射面天线中主反射面光程差的分布特征进行分析，获得拟合结果，并根据副反射面的偏移量与拟合结果的关系，可以高效准确地确定出副反射面的位姿调整量，从而能够补偿双反射面天线结构变形带来的影响。