法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-03-10
实质审查的生效 IPC(主分类):G06T3/00 申请日:20190722
实质审查的生效
2019-11-05
公开
公开
机译: 相互作用的间距离估计装置,相互相互间距离估计方法和相互作用的间距离估计程序
机译: 用于氮化物ROM的MOS晶体管漏极/源极路径制造方法,涉及蚀刻由原硅酸四乙酯制成的间隔物,以在栅极触点和源极区域之间以及触点和漏极区域之间产生间距
机译: 在相互组合的位置,电子间距设置方式,电子间距设置装置和电子间距设置程序,电子间距检测方法,电子间距检测装置和电子间距检测程序以及数据传输方式