首页> 中国专利> 碳化硅超结功率半导体器件及用于制造该器件的方法

碳化硅超结功率半导体器件及用于制造该器件的方法

摘要

功率半导体器件包括具有第一主侧表面(3)和第二主侧表面(4)的半导体晶片(101)。半导体晶片(101)包含具有第一传导性类型的第一半导体层(2)和多个柱状或板状的第一半导体区域(5),所述多个柱状或板状的第一半导体区域在与第一主侧表面(3)和第二主侧表面(4)垂直的垂直方向上在第一主侧表面(3)和第二主侧表面(4)之间的第一半导体层(2)中延伸。第一半导体区域(5)具有不同于第一传导性类型的第二传导性类型。其中,第一半导体层(2)是六方碳化硅的层。第一半导体区域(5)是3C多型碳化硅的区域。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-15

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/861 申请日:20180302

    实质审查的生效

  • 2019-10-22

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号