用氟气气体混合物进行各向异性深反应离子刻蚀的装置和方法

摘要

本发明涉及一种刻蚀方法，用于采用多个交替的连续刻蚀步骤和钝化步骤通过深反应离子刻蚀(DRIE)使基板(101)各向异性地结构化。根据本发明，使用氟气气体混合物进行刻蚀，氟气气体混合物包含大于25％至40％且包括40％的比例的氟气、1％至50％的比例的氮气和30％至60％且包括60％的比例的惰性气体。此外，本发明涉及这种氟气气体混合物的用途以及通过本发明的氟气气体混合物使基板(101、302)结构化的相应装置(300)。