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公开/公告号CN110114863A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-08-09
原文格式PDF
申请/专利权人 朗姆研究公司;
申请/专利号CN201780079015.3
发明设计人 杨登亮;方浩权;大卫·张;吉那那玛尼·安布罗斯;恩苏克·科;罗伟义;张丹;
申请日2017-12-20
分类号
代理机构上海胜康律师事务所;
代理人李献忠
地址 美国加利福尼亚州
入库时间 2024-02-19 13:13:10
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-01-14
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/67 申请日:20171220
实质审查的生效
2019-08-09
公开
机译: 使用双增压喷头的亚稳活化自由基的选择性剥离和蚀刻系统及方法
机译: 使用双增压喷头进行亚稳态活化的选择性条带和蚀刻的系统和方法
机译:使用带隙选择性光素展示湿蚀刻GaN的晶圆级外延剥离
机译:使用引发剂改性的前体通过原位原子转移自由基聚合剥离聚苯乙烯中的层状双氢氧化物
机译:使用近距型双极电极系统进行变换剥离涡旋度量方法
机译:低损伤各向异性自由基束离子束蚀刻和聚焦离子束损坏的GAAs基材的选择性化学蚀刻
机译:第一部分:通过凸起和错误配对的DNA进行的自由基阳离子传播:“嘌呤:嘌呤错开行走”。第二部分:通过“经典嵌入剂”进行的DNA裂解:单线态激发的溴化乙锭在选择性裂解含G-双链的双链体中的出奇作用。第三部分:含有苯甲酰胺基萘二甲酰亚胺的肽核酸三聚体的合成和光化学行为。
机译:使用亚稳态原子活化解离质谱法(MAD-MS)对磷脂阳离子进行自由基诱导的裂解
机译:使用带隙选择性光素展示湿蚀刻(Phys Status Solidi B 8/2017)的晶圆级外延剥离GaN
机译:I.高速剥离离子与原子氢的电荷交换碰撞。 II。低能高剥离离子三级双串联加速器 - 减速器系统的研制。最终报告,1977年3月1日至5月30日,19日