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一种薄膜沉积镀膜系统及对薄膜进行沉积镀膜的方法

摘要

本发明涉及镀膜技术领域,具体涉及一种薄膜沉积镀膜系统,其包括:至少一组后处理装置,包括靠近所述薄膜两面并相对设置的高压电极板和接地电极板,所述高压电极板靠近所述薄膜的一面设置有用于镀膜老练的局部放电结构。本发明的薄膜沉积镀膜系统能够使电容器薄膜镀膜后薄膜表面较为平整、提高薄膜镀层的绝缘性能和稳定性能。

著录项

  • 公开/公告号CN110129771A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-08-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院电工研究所;

    申请/专利号CN201910307366.6

  • 发明设计人 邵涛;孔飞;章程;张帅;张鹏浩;

    申请日2019-04-16

  • 分类号C23C16/56(20060101);C23C16/54(20060101);C23C16/515(20060101);

  • 代理机构11250 北京三聚阳光知识产权代理有限公司;

  • 代理人尚素丽

  • 地址 100190 北京市海淀区中关村北二条6号

  • 入库时间 2024-02-19 12:54:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C16/56 申请日:20190416

    实质审查的生效

  • 2019-08-16

    公开

    公开

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