能在苛刻蒸发环境下进行薄膜沉积的镀膜系统

摘要

本发明公开了一种镀膜系统及材料沉积方法，镀膜系统可以在苛刻的蒸发环境下精确地控制膜材的沉积，避免了对温度或膜层厚度的测量或监测，降低了薄膜制备的成本。镀膜系统不仅可获得所需的膜层厚度同时还能确保膜层的均匀性，材料沉积方法包括将蒸发材料盛放在真空工艺腔室里的坩埚内；通过加热控制器控制加热器的输出电源功率对坩埚内的蒸发材料进行加热；加热控制器是基于物理模型和虚拟温度传感器模型；采用物理模型计算出第一温度；采用虚拟温度传感器模型计算出第二温度；基于第一温度和第二温度的差异通过加热控制器调节加热器的电源功率；产生膜材蒸气；通过膜材蒸气在衬底上的冷凝使膜材沉积在衬底上。