一种破坏薄膜微柱状结构的镀膜方法：计算机模拟与机理分析

摘要

提出一种基于在0°～180°范围内连续改变沉积膜的蒸发角的方法,利用这种方法可以破坏真空沉积薄膜的典型柱状结构,从而使沉积膜的结构接近大块材料的结构。本文给出了这种结构膜的生长公式,并计算与摸拟了这时薄膜的微观结构,同时分析了由于这种结构而使薄膜具有良好特性的机理。