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一种GaN HEMT器件基板级的微通道-纳米多孔复合结构蒸发器

摘要

一种GaN HEMT器件基板级的微通道‑纳米多孔复合结构蒸发器,属于微电子器件冷却技术领域。在GaN HEMT器件的基板级进行冷却,减少了界面结合材料的使用,大大降低了结温,延长了GaN HEMT器件的使用寿命。本申请由上基板(6)和下基板(5)构成,其中上基板包括纳米多孔区域(2)、流体入口(1)和流体出口(8),下基板的正面刻饰有微通道区域(4)、进口蓄液槽(3)和出口蓄液槽(9)。上基板(6)和下基板(5)采用键合技术进行封装处理,保证纳米多孔结构区域(2)和微通道区域(4)较好的接触性。本装置利用纳米孔内液体的相变蒸发散热,具有运行稳定,温度分布均匀、所需工质少、运行压力低等的特点。

著录项

  • 公开/公告号CN109979900A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-07-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京工业大学;

    申请/专利号CN201910300689.2

  • 发明设计人 夏国栋;王佳豪;马丹丹;贺鑫;

    申请日2019-04-15

  • 分类号

  • 代理机构北京思海天达知识产权代理有限公司;

  • 代理人张立改

  • 地址 100124 北京市朝阳区平乐园100号

  • 入库时间 2024-02-19 12:31:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-07-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L23/427 申请日:20190415

    实质审查的生效

  • 2019-07-05

    公开

    公开

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