机译:基于第四级背屏对高功率应用的分级alinn / ALN / GAN HEMT器件性能的优化
Univ Malaya Dept Elect Engn Fac Engn Kuala Lumpur 50603 Malaysia;
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机译:基于第四级背屏对高功率应用的分级alinn / ALN / GAN HEMT器件性能的优化
机译:高〜k介电材料MIS-HEMTS装置的特征与优化ALO.42LNO.O3GaO.55N / UID-AIN / GAN / GAN异质结构进行高功率开关应用
机译:厚度为9.8nm的AlInN / GaN HEMT的高功率Ka波段性能
机译:AlInN / GaN HEMT在微波频率下的功率应用性能
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机译:以AlN / GaN超晶格为阻挡层的MOCVD法生长GaN HEMT中的2-DEG特性
机译:具有alGaN背势垒的Lg 50 nm InalN / alN / GaN HEmT的静态和动态特性,适用于高功率毫米波应用
机译:欧姆接触电阻对alN / GaN HEmT结构阻挡层厚度的依赖性