法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-07-26
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/78 申请日:20171214
实质审查的生效
2019-07-02
公开
公开
机译: 硅纳米晶体叠层结构的制备方法及能够在低温下形成硅纳米晶体的方法
机译: 使用等离子体沉积技术形成的纳米晶体硅层结构,其形成方法,具有该纳米晶体硅层结构的非易失性存储器件以及制造该非易失性存储器件的方法
机译: 形成以氧或氮封端的硅纳米晶体结构和以氧或氮封端的硅纳米晶体结构的方法