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用于原子层蚀刻(ALE)的终点检测算法

摘要

本文描述的是用于确定从等离子体处理系统获取的光发射光谱(OES)数据的终点的架构、平台和方法。所述OES数据例如包括吸附步骤过程、解吸步骤过程或其组合。在该示例中,所述OES数据在终点确定之前经受信号同步和瞬态信号滤波,这可以通过应用移动平均滤波器来实现。

著录项

  • 公开/公告号CN109643673A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;

    申请/专利号CN201780053849.7

  • 发明设计人 陈艳;田新康;贾森·弗恩斯;

    申请日2017-08-31

  • 分类号

  • 代理机构北京集佳知识产权代理有限公司;

  • 代理人陈炜

  • 地址 日本东京都

  • 入库时间 2024-02-19 11:23:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 申请日:20170831

    实质审查的生效

  • 2019-04-16

    公开

    公开

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