栅极电介质保留的栅极切割工艺

摘要

本文公开了用于集成电路器件，具体地，用于鳍式场效应晶体管器件的栅极切割工艺。示例性方法包括接收包括栅极结构的集成电路器件，以及实施栅极切割工艺以将栅极结构分为第一栅极结构和第二栅极结构。栅极切割工艺包括选择性地去除栅极结构的部分，从而使得残留的栅极介电层在第一栅极结构和第二栅极结构之间延伸。在一些实施方式中，残留的栅极电介质包括高k介电材料。该方法还包括在第一栅极结构和第二栅极结构之间形成栅极隔离区域。本发明的实施例还涉及栅极电介质保留的栅极切割工艺。