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蚀刻终点监控装置及蚀刻终点监控方法

摘要

本发明提供一种蚀刻终点监控装置及蚀刻终点监控方法。所述蚀刻终点监控装置包括:入射光源、反射镜及显色板;所述入射光源用于向待蚀刻的基板发射入射光;所述反射镜位于由所述待蚀刻的基板反射所述入射光产生的第一反射光的光路上,用于反射所述第一反射光,产生第二反射光照射至显色板上;所述显色板位于所述第二反射光的光路上,用于显示由所述第二反射光产生的光斑,利用待蚀刻的基板上不同膜层对所述入射光的反射特性的不同,使得显示板的光斑在不同的蚀刻阶段具有不同的强弱状态,从而能够根据所述光斑的强弱变化,快捷有效的监控蚀刻终点,促进蚀刻工艺的开发及蚀刻精度的提升。

著录项

  • 公开/公告号CN109659249A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市华星光电技术有限公司;

    申请/专利号CN201811575330.8

  • 发明设计人 梅园;

    申请日2018-12-21

  • 分类号

  • 代理机构深圳市德力知识产权代理事务所;

  • 代理人林才桂

  • 地址 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

  • 入库时间 2024-02-19 09:48:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/66 申请日:20181221

    实质审查的生效

  • 2019-04-19

    公开

    公开

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