电子级正硅酸乙酯中痕量杂质分析的前处理方法及装置

摘要

本发明涉及痕量检测技术领域，具体涉及电子级正硅酸乙酯中痕量杂质分析的前处理方法及装置，前处理方法是先利用高纯HF处理电子级正硅酸乙酯待测样品，待气体释放完毕后，加入高纯硝酸处理；前处理装置包括样品处理室和排风装置，排风装置连接于样品处理室顶部。本发明的装置结构简单、样品处理速度快、操作简便、分析结果干扰性小、重现性好以及检出限低。