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一种基于绝缘体上应变硅纳米薄膜

摘要

本发明公开了一种基于绝缘体上应变硅纳米薄膜,包括以超薄sSOI纳米薄膜为基底材料,开展了悬浮桥型结构纳米薄膜应变调节研究,引入氢氟酸蒸汽腐蚀,应变硅技术对载流子迁移率增强,过对SOI顶层本征硅(不含应变)进行特定的悬浮桥型加工,在不同结构尺寸和不同激光功率下,引入氢氟酸蒸汽腐蚀系统消除表面张力,单轴应变4.48%的悬浮应变硅纳米线。该基于绝缘体上应变硅纳米薄膜因其引入氢氟酸蒸汽腐蚀系统消除表面张力,设计特定桥型结构和基于弹性形变理论,得到了单轴应变4.48%的悬浮应变硅纳米线,有限元软件Comsol Multiphysics模拟仿真悬浮桥型结构的应变分布和应变类型。

著录项

  • 公开/公告号CN109216429A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 久耀电子科技(江苏)有限公司;

    申请/专利号CN201710520957.2

  • 发明设计人 赵莉民;

    申请日2017-06-30

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 223121 江苏省淮安市洪泽区东双沟镇工业集中区

  • 入库时间 2024-02-19 07:45:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-11-01

    发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):H01L29/06 申请公布日:20190115 申请日:20170630

    发明专利申请公布后的撤回

  • 2019-01-15

    公开

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