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一种具有P型GaN帽层的GaN基肖特基势垒二极管

摘要

本发明涉及一种具有P型GaN帽层的GaN基肖特基势垒二极管,包括衬底、位于衬底上的缓冲层、位于缓冲层上的沟道层、复合势垒层、阴极、复合阳极、P型GaN帽层和钝化层,其中,复合势垒层位于沟道层上;阴极、复合阳极和P型GaN帽层均位于复合势垒层上,P型GaN帽层位于阴极和复合阳极之间,并且P型GaN帽层的长度小于等于所述阴极与所述复合阳极之间距离的一半;钝化层覆盖在阴极、复合阳极、P型GaN帽层和复合势垒层上。本发明实施例的具有P型GaN帽层的GaN基肖特基势垒二极管在提高器件击穿电压的同时减小了器件的开启电压,使得二者同时具有较高的性能指标,改善了器件的击穿特性和可靠性。

著录项

  • 公开/公告号CN109166929A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安电子科技大学;

    申请/专利号CN201810984710.0

  • 发明设计人 郑雪峰;白丹丹;马晓华;马佩军;

    申请日2018-08-28

  • 分类号H01L29/872(20060101);H01L29/06(20060101);

  • 代理机构61230 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人郝梦玲

  • 地址 710071 陕西省西安市太白南路2号

  • 入库时间 2024-02-19 06:52:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/872 申请日:20180828

    实质审查的生效

  • 2019-01-08

    公开

    公开

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